紫外線輻射破壞污染物，電暈處理機跳閘等離子體處理每秒只能穿透幾納米，污染層不厚。指紋也適用。2.等離子清洗設備的氧化物去除這個過程涉及氫或氫和氬的化合物的使用。有時也可以采用兩步法。首先將表層氧化5分鐘，然后用氫和氬化合物去除。各種氣體也可以同時處理。3.等離子清洗設備焊接一般情況下，焊接印刷電路板前應使用化學藥品。焊接后必須用等離子法去除這些化學物質，否則會導致腐蝕等問題。

相對于UV生產涂膜和開膠產品更好，電暈處理機跳閘但小盒子產品不能用貼膜謀生的方法，切齒線會出現工藝問題，增加切板成本等等。而低溫常壓等離子技術很好地解決了上述矛盾，既不需要打磨，也不需要在產品表面畫齒線，在條件允許的情況下還可以使用低成本的膠水，可以有效解決傳統(tǒng)貼盒工藝中的幾大難題：1.紙粉和紙毛對環(huán)境和設備的影響；2.磨削影響工作效率；3.產品會開膠；四是貼盒成本高。

（3）鏈轉移反應：H+C2H6&RARR；C2H5+H2(3-29)CH3+C2H6&RARR；C2H5+CH4(3-30)CH3+E*&Rarr；CH2+H(3-31)CH2+E*&Rarr；CH+H(3-32)CH+E*&RARR；C+H(3-33)（4）鏈終止反應：CH3+H&RARR；CH4(3-34)CH2+CH2&RARR；C2H4(3-35)CH3+CH&Rarr；C2H4（3-36）CH+CH&RARR；C2H2(3-37)低溫常壓下，電暈處理機跳閘純乙烷在等離子體體的作用下可以脫氫生成乙炔、乙烯、少量甲烷和積碳，但也存在轉化率低、反應器壁積碳等問題。

等離子體中電子的溫度可以達到幾千K到幾萬K，電暈處理機跳閘而氣體的溫度很低，大約是室溫到幾百攝氏度，電子的能量大約是幾伏到十伏。這個能量比高分子材料的成鍵能高出幾到十電子伏特。-真空等離子體清洗機可以完全破壞有機大分子的化學鍵形成新的鍵；但它比高能射線低得多，而且只影響材料表面，因此不會影響其性質。

電暈處理機跳閘

等離子表面清洗在這類生產過程中變得越來越關鍵，從彩色濾光片、支撐架、電路板焊錫層表層去除有機化學污染物，對各種原材料表層進行活化粗化處理，以不斷改善支撐架與彩色濾光片之間的粘附特性，提高布線穩(wěn)定性，提高智能手機模組合格率。等離子表面清洗技術廣泛應用于移動設備攝影模組：事實上，等離子表面清洗技術廣泛應用于手機攝影模組，可加工產品有很多，如濾鏡、支架、電路板墊等，其加工效果與紅外截止濾鏡相同。

無電弧，無真空室，無有害氣體吸入系統(tǒng)，長期使用不會對操作人員造成身體傷害。大氣壓輝光等離子體技術。采用RF射頻作為激勵電源，工作頻率為13.56MHz。選擇氬（Ar）為發(fā)生氣體，氧氣或氮氣為反應氣體。等離子清洗機的優(yōu)點：主要分為兩種方式，即空腔式和常壓式，而這兩種等離子技巧都是直接等離子。空腔等離子體的特點是需要一個封閉的空腔，電極建在真空空腔內。

兩類等離子體各有特點和應用（見等離子體的工業(yè)應用）。氣體放電分為直流放電和交流放電。例如，在高頻電場中處于低壓狀態(tài)的氧氣、氮氣、甲烷、水蒸氣等氣體分子，在輝光放電條件下，可以分解成加速的原子和分子，從而產生電子，解離成帶正負電荷的原子和分子。產生的電子在電場中加速時獲得高能量，并且當它與周圍的分子或原子碰撞時，其結果是電子在分子和原子中被激發(fā)，它處于激發(fā)態(tài)或離子態(tài)。此時，物質存在的狀態(tài)是等離子體狀態(tài)。

在半導體封裝領域，通常采用真空等離子體處理系統(tǒng)，隨著設備的不斷吸塵，真空室內的真空度不斷提高，分子間的距離變大，分子間作用力越來越小，Ar、H2、N2、O2、CF4等工藝氣體被等離子體清洗設備的等離子體發(fā)生器產生的高壓交變電場激發(fā)，使其變?yōu)楦叻磻曰蚋吣芰康牡入x子體，從而與半導體器件表面的有機污染物和微粒子反應，生成揮發(fā)性物質，通過真空泵抽出，達到清洗、活化、刻蝕的目的。。

電暈處理機跳閘