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P/OLED產(chǎn)品解決方案，河北真空等離子表面處理機(jī)供應(yīng)從P的角度來(lái)看：在OCA/OCR、層壓、ACF、AR/AF等工藝中使用各種大氣壓等離子體對(duì)觸摸屏的主要工藝進(jìn)行清洗和涂膠/涂膠，提高功率。去除主體中的氣泡和異物，均勻排出各種玻璃和薄膜，防止表面損壞。氮?dú)?(N2) 是一種廣泛使用的氣體，制造成本低。本發(fā)明的氣體主要與在線(xiàn)等離子清洗技術(shù)結(jié)合以進(jìn)行材料的表面活化改性。它也可以在真空環(huán)境中使用。

河北真空等離子表面處理機(jī)供應(yīng)

等離子清洗機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面等離子清洗機(jī)也叫等離子清潔機(jī)，是一種全新的高科技技術(shù)，利用活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而達(dá)到清潔、涂覆等目的，在多個(gè)領(lǐng)域中都有一定的應(yīng)用。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。

Liu采用流柱放電方式，以He為平衡氣(占總氣體流量的60%~80%)，在一定的放電功率下，根據(jù)CO2與CH4摩爾比不同，甲烷轉(zhuǎn)化率介于20%~ 80%，二氧化碳轉(zhuǎn)化率介于8%~49%，C2烴收率介于20%~45%。陳棟梁等在微波plasma等離子體作用下直接轉(zhuǎn)化CH4和CO2， 一步制取C2烴，反應(yīng)主要C烴產(chǎn)物為C2H2和C2H6，等離子體功率增加有利于生成C2H2。

等離子清洗機(jī)與真空泵相連，腔體內(nèi)的等離子在工作過(guò)程中輕輕地清洗待清洗物體的表面，讓?zhuān)ㄓ袡C(jī)）污染物在短時(shí)間內(nèi)被徹底清洗干凈。污染物通過(guò)真空泵排出，潔凈度達(dá)到分子水平。除了超強(qiáng)清潔能力外，等離子清潔劑還可以在某些條件下改變某些材料的表面特性。等離子體作用于材料表面，重組表面分子的化學(xué)鍵，形成新的表面特性。

等離子清洗簡(jiǎn)稱(chēng)干法清洗，是設(shè)備利用射頻等離子源的激發(fā)，使工藝氣體激發(fā)成為離子態(tài)，與清洗材質(zhì)表面的污染物發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)，通過(guò)真空泵反應(yīng)產(chǎn)生的污染物排走，達(dá)到清洗效果。等離子清洗的效果影響產(chǎn)品的成品率。等離子清洗可應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、薄膜電路、元器件封裝前、連接器粘接等行業(yè)的二次精密清洗。

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