簡(jiǎn)要介紹了低溫等離子體表面處理設(shè)備在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用，總平均親水性為負(fù)值如解決抗凝、生物相容性、高分子聚合物表面親水性、抗鈣化和細(xì)胞吸附生長(zhǎng)、抑制智等，我國(guó)低溫等離子體醫(yī)學(xué)研究經(jīng)歷了怎樣的歷程？事實(shí)上，國(guó)內(nèi)學(xué)者在低溫血漿醫(yī)學(xué)方面早在1996年就有zui出現(xiàn)的報(bào)道，隨后開(kāi)展了常壓冷等離子體消毒滅jun的相關(guān)研究。值得一提的是，1997年，國(guó)內(nèi)學(xué)者開(kāi)始逐步研究低壓冷血漿對(duì)乙肝病毒的滅活作用。

采用合適的工藝條件對(duì)材料表面進(jìn)行處理，親水性為負(fù)值可明顯改變材料表面的形貌，并引入多種含氧基團(tuán)，使表面由無(wú)極難粘轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂幸欢O性、易粘性和親水性，有利于膠接、涂層和印刷。對(duì)材料進(jìn)行等離子體表面處理技術(shù)處理，具有以下幾個(gè)功效：1、活性：顯著改善浸潤(rùn)性，形成活性表面；2、清洗：清除污垢和油污，精細(xì)清洗和除靜電；3、涂裝：通過(guò)表面涂裝處理，提供功能性表面，改善表面粘附能力，提高表面粘附的可靠性和持久性。

這些有希望的紋理還沒(méi)有在常規(guī)手術(shù)中使用，總平均親水性為負(fù)值而且還存在許多障礙。例如，相關(guān)的法律法規(guī):在一種新的合成材料能被植入人體之前，需要長(zhǎng)時(shí)間的試驗(yàn)和臨床審查。這需要一個(gè)法律程序。等離子清洗機(jī)在完成清洗去污的同時(shí)，還改變了表面紋理本身的特性。如有效提高表面親水性，提高膜的附著力。采用等離子清洗機(jī)，對(duì)表面的紋理進(jìn)行針對(duì)性的處理，可以在后續(xù)的加工過(guò)程中顯著提供表面張力、紋理，獲得良好的印刷、粘接和整理質(zhì)量。

由于等離子體中的絕緣體通常被稱為浮置基板，親水性為負(fù)值絕緣體的電位常稱為浮置電位。顯然浮置電位是一個(gè)負(fù)值，而浮置基板與等離子體交界處形成的是一個(gè)由正離子構(gòu)成的空間電荷層。因此任何絕緣體，包括反應(yīng)器壁置于等離子體中都會(huì)形成離子鞘(如圖1-3所示)：圖1-3浮置基板處的離子鞘等離子體鞘是等離子體重要特征之一，等離子汽車清洗機(jī)等離子體鞘的具體表現(xiàn)與體系溫度T和粒子密度n密切相關(guān)。

親水性為負(fù)值

第一步是用氧氣氧化表面，第二步是用氫氣和氬氣的混合物去除氧化層。也可以同時(shí)用幾種氣體處理。表面等離激元效應(yīng)及NDASH；在實(shí)驗(yàn)中，我們把微小的金屬顆粒想象成等離子體（金屬晶體，因?yàn)橛写罅康淖杂呻娮涌梢砸苿?dòng)&mdash；-帶有定量電荷，自由分布，不會(huì)碰撞導(dǎo)致電荷丟失&mdash；由于金屬在可見(jiàn)光和紅外波段的介電系數(shù)為負(fù)值，當(dāng)金屬和介質(zhì)結(jié)合成復(fù)合結(jié)構(gòu)時(shí)，會(huì)產(chǎn)生許多有趣的現(xiàn)象。

因此，需要在壁上形成結(jié)構(gòu)，防止電子在壁周圍繼續(xù)電離，這種結(jié)構(gòu)是平衡的。等離子體的電中性。這種結(jié)構(gòu)就是護(hù)套層，可以是上面的電容器。電容器處于放電環(huán)境中，電荷存儲(chǔ)在表面上，從而產(chǎn)生電場(chǎng)。電場(chǎng)必須對(duì)應(yīng)于電壓。由于平衡，也就是這個(gè)電場(chǎng)，和電壓是動(dòng)態(tài)的靜電場(chǎng)，也就是直流電場(chǎng)和直流電壓，就形成了一個(gè)VDC。腔室的內(nèi)壁接地，形成的偏置場(chǎng)阻擋電子，因此這個(gè) VDC 在接地的內(nèi)壁上具有負(fù)值或負(fù)偏置。

由于等離子體最初是準(zhǔn)電中性的，如果不導(dǎo)電的絕緣基板懸浮在等離子體中，基板中的離子和電子會(huì)在單位時(shí)間內(nèi)移動(dòng)并到達(dá)基板，組成的電子數(shù)量要高得多比離子數(shù)。由于到達(dá)堿基的一些電子與離子重新結(jié)合，其余的是離子，因此堿基是負(fù)電荷積聚在底面上，基板表面的電位變?yōu)樨?fù)值。這種負(fù)電位吸引正離子，同時(shí)排斥隨后的電子。當(dāng)基板的負(fù)電位達(dá)到一定程度時(shí)，離子的流動(dòng)就變成了電子的流動(dòng)。

由于等離子體中的絕緣體通常被稱為浮動(dòng)襯底，因此絕緣體的電位常被稱為浮動(dòng)電位。很明顯，浮置電位為負(fù)值，浮置襯底與等離子體交界處形成由正離子組成的空間電荷層。因此，放置在等離子體中的任何絕緣體，包括反應(yīng)器壁，都會(huì)形成離子鞘層（如圖1-3所示）：圖1-3浮動(dòng)襯底上的離子鞘層等離子體鞘層是等離子體的重要特征之一。

總平均親水性為負(fù)值

其中，總平均親水性為負(fù)值有些氣體原子分解成電子和離子，有些在吸收能量之后變成亞穩(wěn)原子，具有化學(xué)活性。該狀態(tài)下，既包含有一定能量的中性原子或分子，也有相當(dāng)數(shù)量的帶電粒子，以及具有化學(xué)活性的亞穩(wěn)原子和分子。離子化自由電子的總負(fù)值，等于正離子的正電荷。這個(gè)高離子化的宏觀中性氣體叫做等離子。等離子清潔是等離子表層改性的常見(jiàn)方式中的一個(gè)。